| Zugriffsnummer | 53783 |
| Dokumenttyp | Bericht |
| Sprache | Deutsch |
| Titel | 50. PTB-Seminar Mikrometrologie: 2. und 3. November 1983 |
| Quelle/Jahr | (1983), XI, 292 S. |
| Schriftenreihe | PTB-Bericht PTB-Opt-15 |
| Herausgeber(in) |
Hahn, Dietrich; 4, Optik, PTB-Braunschweig
Hoeschen, Dietmar; 4.24, Photographische Informationsverarbeitung, PTB-Braunschweig
Physikalisch-Technische Bundesanstalt
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| ISSN | 0341-6712 |
| Berichtsnummer | PTB-Opt-15 |
| Verlag | Braunschweig: Physikal.-Techn. Bundesanstalt |
| Konferenzangaben | 50. PTB-Seminar, Braunschweig, 2-3, November, 1983, Deutschland |
| Zusammenfassung | Absolutmessungen von Strukturbreiten im Mikrometerbereich mit dem Lichtmikroskop - Kalibrierung von photoelektrischen Meßmikroskopen für Messungen von Feinstrukturen - Optische Meßmethoden in der Halbleiterindustrie - Meßtechnische Aufgaben und Probleme bei Herstellung von photolithographischen Masken - Meßergebnisse verschiedener Laboratorien: NBV, IBM, PTB - Präzisionsmessungen mit Bildverarbeitung für Halbleiteranfertigung - Abbildungstester - Metrologische Möglichkeiten der Elektronenmikroskopie - Elektronenstrahl-Metrologie an Halbleiterbauelementen - Mikrobereichs-Schichtdickenbestimmung durch Elektronenrückstreuung - Rauheitsmessung mit dem Raster-Elektronenmikroskop (REM) - Vergleichende Oberflächenmessungen mit Tastschnitt- u. optischen Meßgeräten. |
