| Zugriffsnummer | 49192 |
| Dokumenttyp | Zeitschriftenartikel |
| Peer Review | unbekannt |
| Sprache | Deutsch |
| Titel | Rastermikroskopie im Nah- und Fernfeld an Strukturen im Submikrometerbereich |
| Übersetzungstitel | Scanning near-field and far-field microscopy for the measurement of submicrometer structures |
| Autor(in); Institution |
Geuther, Heinrich; 4.22, Bildanalyse, PTB-Braunschweig
Schröder, Klaus-Peter; 4.22, Bildanalyse, PTB-Braunschweig
Danzebrink, Hans-Ulrich; 5.11, Maßteilungen, PTB-Braunschweig
Mirandé, Werner; 4.22, Bildanalyse, PTB-Braunschweig
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| Quelle/Jahr | Technisches Messen: 61 (1994), 10, 390 - 400 |
| ISSN | 0171-8096 (PRINT) |
| DOI | |
| Verlag | Berlin [u.a.]: De Gruyter |
| Freie Schlagworte | Metrologie ; Mikrostrukturmesstechnik ; Lichtmikroskopie ; Elektronenmikroskopie ; Rasterkraftmikroskopie ; optische Nahfeldmikroskopie |
| Zusammenfassung | Die Qualitätssicherung in der Mikro- und Nanotechnologie erfordert Meßunsicherheiten im Nanometerbereich. Der Aufsatz gibt eine Übersicht über die aktuellen Verfahren der Mikrostrukturmeßtechnik in der PTB mit dem Schwerpunkt der Strukturbreitenmeßtechnik. Die einzelnen Mikroskopieverfahren werden beschrieben, und die Schwierigkeiten bei der theoretischen Interpretation der Meßergebnisse werden diskutiert. The quality control in the field of micro-and nanotechnologies requires measurement uncertainties in the nanometer range. The paper gives a survey of the actual measurement techniques of microstructures in PTB concentrating on linewidth measurements. The single methods of microscopy are described and the problems in the theoretical interpretation of the results are discussed. |
