| Datensatz noch nicht abgeschlossen | |
| Zugriffsnummer | 47609 |
| Dokumenttyp | Zeitschriftenartikel |
| Peer Review | unbekannt |
| Sprache | Deutsch |
| Titel | Ein Elektronen-Auflicht-Interferenzmikroskop zur Präzisionsmessung von Unebenheiten und Potentialunterschieden auf Oberflächen |
| Autor(in); Institution |
Lichte, Hannes; PTB-Braunschweig
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| Quelle/Jahr | PTB-Mitteilungen: 89 (1979), 4, 229 - 236 |
| ISSN | 0030-834X (PRINT) |
| Verlag | Braunschweig: Vieweg |
| Zusammenfassung | In dem hier beschriebenen Elektronen-Auflicht-Interferenzmikroskop wird ein kohärenter 25 keV – Elektronenstrahl in einem Elektronenspiegel reflektiert. Bei der Reflexion wird die Phase der Elektronenwelle entsprechend der topographischen oder elektrischen Struktur der Spiegeloberfläche moduliert. Zwei Teile dieser Welle werden dann mittels eine Elektronenbiprismas einander überlagert und es entsteht ein Muster aus Interferenzstreifen. Eine Auswertung der Abweichung dieser Streifen von parallelen geraden Linien erlaubt die Bestimmung der Struktur der Spiegeloberfläche. Die Auflösung für Höhendifferenzen hängt von der Höhenstruktur ab: Für eine sinusförmige Höhenverteilung mit einer Periode von 1 μm (5 μm) beträgt sie 0,2 nm (0,04 nm). |
