Zugriffsnummer 44745
Dokumenttyp Konferenzartikel
Peer Review unbekannt
Sprache Deutsch
Titel Charakterisierung eines UV-Mikroskops zur hochgenauen Positions- und Breitenmessung am Nanometerkomparator (NMK) der PTB
Autor(in); Institution
Krüger, Jan; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig; 5.2, Dimensionelle Nanometrologie, PTB-Braunschweig
Xu, Han; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
Köning, Rainer; 5.2, Dimensionelle Nanometrologie, PTB-Braunschweig
Bodermann, Bernd; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
Quelle/Jahr DGaO Proceedings 2020:(2020), 1 - 2
ISSN 1614-8436
Persistent Identifier
URL
Konferenzangaben 121. Tagung der Deutschen Gesellschaft für angewandte Optik (cancelled), Bremen, 02-06, Juni, 2020, Deutschland
Freie Schlagworte Optische bidirektionale Breitenmessungen ; UV- Mikroskopie
Zusammenfassung Wir untersuchen das UV- Mikroskop am Nanometerkomparator (NMK) der PTB hinsichtlich der Messung von Strukturbreiten. Erste Messungen einer Chromlinie auf einem Glassubstrat wurden durchgeführt und stimmen gut mit rigorosen Simulationen überein. [Die Konferenz hat aufgrund von Covid-19 nicht stattgefunden, die Konferenzbeiträge wurden aber veröffentlicht.]
Themenbereich der Metrologie Nanometrologie
Forschungsprojekt Flankierende Maßnahme der PTB (Abteilungen 4 und 5): Optische bidirektionale Messungen

Zitierung

Krüger, J., Xu, H., Köning, R., & Bodermann, B. (2020). Charakterisierung eines UV-Mikroskops zur hochgenauen Positions- und Breitenmessung am Nanometerkomparator (NMK) der PTB. 121. Tagung der Deutschen Gesellschaft für angewandte Optik (cancelled), Bremen, 02-06, Juni, 2020, Deutschland.

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