| Zugriffsnummer | 44638 |
| Dokumenttyp | Zeitschriftenartikel |
| Peer Review | unbekannt |
| Sprache | Deutsch |
| Titel | Hohlkathoden-Kupferionenlaser |
| Autor(in); Institution |
Macdonald, Rainer; Optisches Insitut der Technischen Universität Berlin, Berlin, GERMANY
Hamisch, J.; Optisches Insitut der Technischen Universität Berlin, Berlin, GERMANY
Koch, Hans; 9.33, Kryoelektronik, PTB-Berlin; Optisches Insitut der Technischen Universität Berlin, Berlin, GERMANY
Eichler, H. J.; Optisches Insitut der Technischen Universität Berlin, Berlin, GERMANY
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| Quelle/Jahr | Laser und Optoelektronik:(1986), 4, 303 - 310 |
| ISSN | 0722-9003 |
| Verlag | Aarau: AT-Fachverl. |
| Freie Schlagworte | hollow cathode discharge ; hollow cathode laser ; metal ion laser ; Cu+ laser |
| Zusammenfassung | Eigenschaften von Hohlkathodenentladungen und ihre Anwendung in Hohlkathodenlasern werden diskutiert. Von speziellem Interesse ist der Cu+-Hohlkathodenlaser wegen der Möglichkeit zum cw-Betrieb auf starken Linien im UV (248-270nm) und im IR (740-800 nm mit Leistungen von einigen Watt. Konstrukionsprinzipien, Kathodengeometrien, elektrische Eigenschaften, Ausgangsleistungen und Lebensdaueraspekte werden beschrieben. Mögliche Anwendungen und zukünftige Entwicklungstendenzen dieses Lasersystems werden angegeben. |
