| Zugriffsnummer | 41663 |
| Dokumenttyp | Konferenzartikel |
| Peer Review | unbekannt |
| Sprache | Englisch |
| Titel | Towards traceable Mueller ellipsometry |
| Autor(in); Institution |
Grunewald, Tobias; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
Wurm, Matthias; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
Bodermann, Bernd; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
Reck, Johanna; SENTECH Instruments GmbH, Berlin, GERMANY
Richter, Uwe; SENTECH Instruments GmbH, Berlin, GERMANY
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| Quelle/Jahr | The European Optical Society Biennial Meeting 2018 - EOSAM 2018 Proceedings:(2018), 490 - 491 |
| Availability | [online only] |
| Herausgeber(in) |
Saastamoinen, Kimmo; European Optical Society (EOS), Joensuu, FINLAND
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| ISBN | 978-952-68553-7-0 |
| Verlag | Joensuu: European Optical Society (EOS) |
| Konferenzangaben | European Optical Society Biennial Meeting (EOSAM) 2018, Delft, 08-12, October 2018, The Netherlands |
| Freie Schlagworte | nanometrology ; critical dimension ; Mueller matrix ; ellipsometry ; gratings |
| Zusammenfassung | We derived a novel mathematical procedure to analyse realistically statistic uncertainty contributions in the analysis of Mueller ellipsometry data for dimensional measurements of grating structures and present an application of this technique for a measurement example of subwavelength Si gratings. |
| Themenbereich der Metrologie | Nanometrologie |
| Forschungsprojekt | Transmet: Entwicklung eines metrologischen (Müller-) Ellipsometers zur Charakterisierung strukturierter und texturierter Oberflächen |