Zugriffsnummer 38641
Dokumenttyp Zeitschriftenartikel
Sprache Deutsch
Titel Röntgeninterferenzen an Siliciumeinkristallen : Eine Methode zur präzisen Winkelmessung
Autor(in); Institution
Becker, Peter; 6.13, Röntgenmetrologie, PTB-Braunschweig
Stümpel, Jürgen; 6.13, Röntgenmetrologie, PTB-Braunschweig
Windisch, Dietmar; Fachhochschule Wilhelmshaven, Wilhelmshaven, GERMANY
Quelle/Jahr PTB-Mitteilungen: 104 (1994), 6, 445 - 453
ISSN 0030-834X
Verlag Wiesbaden: Vieweg
Zusammenfassung Die nahezu perfekt geometrische Struktur von Silicium-Einkristallen, hervorgerufen durch die hohe Gleichmäßigkeit des Gitterparameters, wird ausgenutzt, um mit Hilfe von neuartigen röntgenographischen Verfahren lichtoptische Winkelmeßgeräte zu kalibrieren. Gegenüber lichtoptischen Verfahren besitzen Röntgenreflexionskurven eine auf Winkelsekunden begrenzte Halbwertsbreite, und Oberflächeneffekte führen an den optisch polierten Kristallspiegeln zu keinen zusätzlichen Meßunsicherheiten. An zwei Beispielen wird die Leistungsfähigkeit dieser Methoden aufgezeigt: Die Kalibrierung von Winkelmeßtischen mit Hilfe von Siliciumpolygonen und die Kalibrierung von Autokollimationsfernrohren mit Hilfe von Röntgen-Winkelinterferometern aus Silicium, in denen als Teilungsnormal der Netzebenenabstand von 0,2 nm verwendet und eine Meßunsicherheit weit unterhalb einer zehntausendstel Winkelsekunde errechnet wird. The almost perfect structureof silicon single crystals, attributable to the high uniformity of the lattice parameter, is made use of to calibrate light-optical angle measuring instruments by means of novel x.ray procedures.Contrary to light-optical methods, x-ray reflection curves have a half width limited to angular seconds, and surface effects on the optically polished crystal mirrors do not lead to additional uncertainties of measurements. The efficiency of this method is shown by two examples: The calibration of angle measuring tables with the aid of silicon polygons and the calibration of autocollimating telescopes with the aid of x-ray angle interferometers made of silicon, in which the lattice plane spacing of 0.2 nm is used as ruling standard and with the aid of which an uncertainty of measurement far below 1/10 000 of an angular second is reached.

Zitierung

Becker, P., Stümpel, J., & Windisch, D. (1994). Röntgeninterferenzen an Siliciumeinkristallen : Eine Methode zur präzisen Winkelmessung. PTB-Mitteilungen, 104(6), 445–453.

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