| Zugriffsnummer | 31555 |
| Dokumenttyp | Zeitschriftenartikel |
| Sprache | Deutsch |
| Titel | Rasterelektronenmikroskopische Bestimmung der Dicke von Schichten durch Kombination von Elektronenstrahl- und Objektscan |
| Autor(in); Institution |
Ahbe, Thomas; 5.43, Schichtdicke, PTB-Berlin
Haft, Norbert; 5.43, Schichtdicke, PTB-Berlin
Hasche, Klaus; 5.4, Industrielle Meßtechnik, PTB-Berlin
Hoffmann, Klaus-Peter; 5.43, Schichtdicke, PTB-Berlin
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| Quelle/Jahr | Beiträge zur elektronenmikroskopischen Direktabbildung und Analyse von Oberflächen: 28 (1995), 7 - 12 |
| ISSN | 0340-3815 |
| Verlag | Münster: Ehrenwerth |
| Freie Schlagworte | Thickness of layers ; traceable measurement ; SEM ; superposition of electron beam and object scan |
| Zusammenfassung | Zur Kalibrierung von Schichtdickenmaßverkörperungen sollen Schichtdickenmessungen auf anerkannte Längennormale rückführbar sein. Die Messung erfolgt an einem Querschnitt (Querschliff), der mit einem Ionenstrahlverfahren präpariert wird. Die Messung erfolgt mit einem FE-REM, das mit einem zusätzlichen Festkörpergelenktisch für eine eindimensionale Bewegung der Probe ausgestattet ist. Die Verschiebung des Tisches und der darauf befindlichen Probe wird mit einem kalibrierten kapazitiven Sensor gemessen. Der Meßablauf, der zu einem zweidimensionalen REM-Bild führt, besteht aus der Kombination einer schrittweisen Verschiebung des Tisches und einem Linienscan des Elektronenstrahls für jede Tischposition. |
Zitierung
Ahbe, T., Haft, N., Hasche, K., & Hoffmann, K.-P. (1995). Rasterelektronenmikroskopische Bestimmung der Dicke von Schichten durch Kombination von Elektronenstrahl- und Objektscan. Beiträge zur elektronenmikroskopischen Direktabbildung und Analyse von Oberflächen, 28, 7–12.