| Zugriffsnummer | 24002 |
| Dokumenttyp | Zeitschriftenartikel |
| Sprache | Englisch |
| Titel | Chemically functionalized carbon nanosieves with 1-nm thickness |
| Autor(in); Institution |
Schnietz, Mark; Universität Bielefeld, Fakultät für Physik, Bielefeld, GERMANY
Turchanin, Andrey; Universität Bielefeld, Fakultät für Physik, Bielefeld, GERMANY
Nottbohm, Christoph T.; Universität Bielefeld, Fakultät für Physik, Bielefeld, GERMANY
Beyer, André; Universität Bielefeld, Fakultät für Physik, Bielefeld, GERMANY
Solak, Harun H.; Paul Scherrer Institute, Laboratory for Micro and Nanotechnology, Villigen, SWITZERLAND
Hinze, Peter; 2.4, Quantenelektronik, PTB-Braunschweig
Weimann, Thomas; 2.4, Quantenelektronik, PTB-Braunschweig
Gölzhäuser, Armin; Universität Bielefeld, Fakultät für Physik, Bielefeld, GERMANY
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| Quelle/Jahr | Small: 5 (2009), 23, 2651 - 2655 |
| ISSN | 1613-6810 (PRINT) ; 1613-6829 (ONLINE) |
| DOI | |
| Verlag | Weinheim: Wiley |
| Freie Schlagworte | nanobiomaterials ; nanolithography ; nanomembranes ; nanosieves ; self-assembled monolayers |
| Zusammenfassung | A route to produce novel chemically functionalized carbon nanosieves with a thickness of only ≈1 nm is presented. The nanosieves have areas of up to ≈1 mm2 with regular openings down to ≈30 nm (see image). Carbon nanosieves are made via nanopatterning of self-assembled monolayers of 4’-nitro-1,1’-biphenyl-4-thiols by extreme UV interference lithography. |
