Zugriffsnummer 22772
Dokumenttyp Zeitschriftenartikel
Sprache Deutsch
Titel Optical flatness metrology: 40 years progress
Übersetzungstitel Metrologia optica de superficies planas: 40 años de progreso
Autor(in); Institution
Schulz, Michael; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
Wiegmann, Axel; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
M.aacute.rques, Andrés; Universität Alicante, SPAIN
Elster, Clemens; 8.4, Mathematische Modellierung und Datenanalyse, PTB-Berlin
Quelle/Jahr Optica pura y aplicada: 41 (2008), 4, 325 - 331 [Online only]
ISSN 0030-3917
URL
Verlag Madrid: Sociedad Espanola de Optica
Freie Schlagworte Metrology ; Optical inspection ; Interferometry ; Deflectometry ; Mathematical methods
Zusammenfassung Optical flatness metrology has improved significantly in the last decades due to novel measurement tools and new math-based methods. An overview is given summarizing the most al techniques for flatness metrology at the nanometer level. The capabilities of modern methods such as the interferometric three-flat test accompanied by a computer-aided evaluation, the Traceable Multi Sensor method as an improved stitching method, and difference deflectometry represented by the Extended Shear Angle Difference method are reviewed. La metrologia de superficies planas ha avanzado considerablemente en las ultimas decadas gracias a nuevas herramientas de medida y a nuevos metodos basados en nuevos enfoques matematicos. En este articulo se da un repaso a las tecnicas opticas mas importantes dedicadas a la medida optica de superficies planas con incertidumbres nanometricas. Asi se revisan las capacidades que ofrecen metodos modemos tales como el test interferometrico basado en tres planos (three flat test) acompanado de una evaluacion asistida por ordenador, el metodo de multiples sensores con trazabilidad (Traceable Multi Sensor method) como un metodo de stitching mejorado, y la deflectometria diferencial representada por el metodo de Extended Shear Angle Difference.

Zitierung

Schulz, M., Wiegmann, A., M.aacute.rques, A., & Elster, C. (2008). Optical flatness metrology: 40 years progress. Optica pura y aplicada, 41(4), 325–331 [Online only].

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