Zugriffsnummer 21764
Dokumenttyp Konferenzartikel
Sprache Deutsch
Titel Konstruktive Realisierung eines hochaperturigen 193nm-Mikroskops für die quantitative dimensionelle Charakterisierung von Mikro- und Nanostrukturen [poster]
Autor(in); Institution
Ehret, Gerd; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
Pilarski, Frank; 5.5, Wissenschaftlicher Gerätebau, PTB-Braunschweig
Bergmann, Detlef; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
Bodermann, Bernd; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
Buhr, Egbert; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
Mirandé, Werner; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
Quelle/Jahr DGaO-Proceedings: 109 (2008), P34
Availability [Online only]
ISSN 1614-8436
URL
Verlag Erlangen: Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik
Konferenzangaben 109. Jahrestagung der Deutschen Gesellschaft für angewandte Optik (DGaO), Esslingen, 13-17, Mai, 2008, Deutschland
Freie Schlagworte Phasenmasken ; Mikrolithografie ; Fokussierung ; Mikroskopie ; Strukturbreiten
Zusammenfassung An der PTB wird zur Zeit ein neuartiges, hochaperturiges optisches 193nm-Mikroskop zur quantitativen Messung von Strukturbreiten von 10 μm bis 100 nm mit Messunsicherheiten von 10 nm (95%-Vertrauensintervall) aufgebaut. Es wird die konstruktive Realisierung des Mikroskops sowie das Konzept der Beleuchtung vorgestellt.

Zitierung

Ehret, G., Pilarski, F., Bergmann, D., Bodermann, B., Buhr, E., & Mirandé, W. (2008). Konstruktive Realisierung eines hochaperturigen 193nm-Mikroskops für die quantitative dimensionelle Charakterisierung von Mikro- und Nanostrukturen [poster]. 109. Jahrestagung der Deutschen Gesellschaft für angewandte Optik (DGaO), Esslingen, 13-17, Mai, 2008, Deutschland.

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