| Zugriffsnummer | 20575 |
| Dokumenttyp | Konferenzartikel |
| Sprache | Deutsch |
| Titel | Fokuskriterien zur Kantendetektion an Phasenobjekten |
| Autor(in); Institution |
Bodermann, Bernd; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
Bergmann, Detlef; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
Ehret, Gerd; 4.2, Bild- und Wellenoptik, PTB-Braunschweig
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| Quelle/Jahr | DGaO-Proceedings: 108 (2007), P27 |
| Availability | [Online only] |
| ISSN | 1614-8436 |
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| Verlag | Erlangen: Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik |
| Konferenzangaben | 108. Jahrestagung der Deutschen Gesellschaft für angewandte Optik (DGaO), Heringsdorf, 29, May - 02, June, 2007, Germany |
| Freie Schlagworte | Phasenmasken ; Mikrolithografie ; Fokussierung ; Mikroskopie ; Strukturbreiten |
| Zusammenfassung | Die optische Mikroskopie bietet neben der Elektronenmikroskopie (SEM), der Rasterkraftmikroskopie (AFM) und der Scatterometrie die Möglichkeit der dimensionellen Charakterisierung von Mikro- und Nanostrukturen. Eine quantitative Bestimmung der Kantenposition und damit der Strukturbreiten ist mit hoher Genauigkeit immer nur durch den Vergleich der experimentellen Mikroskopbilder mit modellierten Bildern möglich. Ein wichtiger Parameter hierbei ist die „richtige“ Einstellung der Fokusebene: Es muss sowohl bei den Messungen als auch bei den Modellrechungen die gleiche Fokuseinstellung verwendet werden, ansonsten gibt es systematische Abweichungen der gemessenen Strukturbreiten. Bei Amplitudenobjekten wie z.B. Chrom-Linien auf Glas lässt sich der Fokus u.a. über die Steilheit der Kante sehr gut definieren und reproduzieren. Bei Phasenobjekten, wie z.B. bei phasenschiebenden MoSi-Masken (MoSi: Molybdänsilizid), versagen diese klassischen Fokuskriterien. Ausgehend von den bekannten Fokuskriterien für Amplitudenobjekte werden neue Kriterien für Phasenobjekte vorgestellt und an Hand von rigorosen Modellrechungen im Hinblick auf eine hohe Sensitivität auf Fokusänderungen diskutiert. Diese Ergebnisse werden mit experimentellen Daten verglichen, die mit einem UV-Mikroskop an MoSi-Phasenmasken erzielt wurden. Es zeigt sich, dass mit den neuen, angepassten Fokuskriterien eine bessere Reproduzierbarkeit und Genauigkeit der Strukturbreitenmessung erreicht werden kann. |
