Zugriffsnummer 15567
Dokumenttyp Konferenzartikel
Peer Review unbekannt
Sprache Englisch
Titel Topography measurement of nanometer synchrotron-optics
Autor(in); Institution
Illemann, Jens; 4.21, Bildoptik und Spektrometrie, PTB-Braunschweig; Möller-Wedel Optical GmbH, Wedel, GERMANY
Geckeler, Ralf D.; 4.21, Bildoptik und Spektrometrie, PTB-Braunschweig
Illemann, Ingolf; 4.21, Bildoptik und Spektrometrie, PTB-Braunschweig
Schlewitt, C.; Möller-Wedel Optical GmbH, Wedel, GERMANY
Grubert, B.; Möller-Wedel Optical GmbH, Wedel, GERMANY
Schnabel, O.; Schnabel Elektronische Meßtechnik, Wedel, GERMANY
Quelle/Jahr X-ray mirrors, crystals, and multilayers II:(2002), 29 - 37
Schriftenreihe Proceedings of SPIE: 4782
Herausgeber(in)
Freund, Andreas K.
ISSN 0277-786X
ISBN 0-8194-4549-5
DOI
Verlag Bellingham, Wash.: SPIE
Konferenzangaben International Symposium on Optical Science and Technology ; SPIE's 47th Annual Meeting, Seattle, 7-11, July, 2002, USA
Freie Schlagworte profilometry ; optical metrology ; X-ray optics ; figure measurement ; long-trace profiler ; slope error ; non-contact measurement ; autocollimator ; curvature

Zitierung

Illemann, J., Geckeler, R. D., Illemann, I., Schlewitt, C., Grubert, B., & Schnabel, O. (2002). Topography measurement of nanometer synchrotron-optics. International Symposium on Optical Science and Technology ; SPIE's 47th Annual Meeting, Seattle, 7-11, July, 2002, USA. https://doi.org/10.1117/12.450982

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