| Zugriffsnummer | 14980 |
| Dokumenttyp | Konferenzartikel in Zeitschrift |
| Sprache | Deutsch |
| Titel | Ein Beitrag zu kalibrierten Nanometerschichten für unterschiedliche Anwendungsbereiche |
| Autor(in); Institution |
Hasche, Klaus; 5, Fertigungsmesstechnik, PTB-Braunschweig
Herrmann, Konrad; 5.102, Härtemessung, PTB-Braunschweig
Thomsen-Schmidt, Peter; 5.12, Mikro- und Nanotopographie, PTB-Braunschweig
Krumrey, Michael; 7.12, Röntgenradiometrie, PTB-Berlin
Ulm, Gerhard; 7.1, Photonenradiometrie, PTB-Berlin
Ade, George; 2.404, Nanostrukturen für technische Anwendungen, PTB-Braunschweig
Pohlenz, Frank; 5.12, Mikro- und Nanotopographie, PTB-Braunschweig
Stümpel, Jürgen; 5.103, Charakterisierung von Grenzflächenstrukturen, PTB-Braunschweig
Busch, Ingo; 5.103, Charakterisierung von Grenzflächenstrukturen, PTB-Braunschweig
Schädlich, S.; Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik, Dresden, GERMANY
Frank, W.; Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig, GERMANY
Hirsch, D.; Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig, GERMANY
Schindler, A.; Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig, GERMANY
Procop, M.; Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung (BAM), Berlin, GERMANY
Beck, U.; Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung (BAM), Berlin, GERMANY
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| Quelle/Jahr | Maschinenbau und Nanotechnik - Hochtechnologien des 21. Jahrhunderts = Mechanical engineering nanotechnology. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium, Technische Universität Ilmenau: 47 (2002), Tagungsband: S. 568 - 569 [print ed.]; [CD-ROM] file name: 13_1_2.pdf |
| ISSN | 1619-4098 ; 0943-7207 |
| Verlag | Ilmenau: Technische Univ. |
| Konferenzangaben | 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium, Ilmenau, 23-26, September, 2002, Deutschland |
| Zusammenfassung | Nanotechnologien werden gegenwärtig als leistungsfähige Oberflächentechniken in erheblichem Umfange industriell genutzt. Dabei spielen dünne Schichten und deren Kenndaten eine wesentliche Rolle, z.B. als Röntgenspiegel oder optische und magnetooptische Datenträger. Die Schichtdicke zählt hierbei zu den technologisch wichtigen Parametern. Abgeleitet von Anwenderinteressen, werden für die Röntgenreflektometrie (XRR bzw. GIXR), Elektronenstrahl-Mikroanalyse (EPMA) und Röntgenfluoreszenzanalyse (XRF) einerseits und die Ellipsometrie andererseits zugeschnittene Schichtdickenmaßverkörperungen (SDM) entwickelt, gefertigt und untersucht. Das Ziel ist die Bereitstellung praxistauglicher, kalibrierter SDM, im weiteren Schichtdickennormale (SDN) genannt. SDN sind Maßverkörperungen, für die der Schichtdickenwert mit einer definierten Messunsicherheit bekannt und auf ein metrologisch anerkanntes Längennormal zurückgeführt ist. Berichtet wird über die Herstellung und messtechnische Charakterisierung der beiden spezifischen Varianten von Maßverkörperungen. |
Zitierung
Hasche, K., Herrmann, K., Thomsen-Schmidt, P., Krumrey, M., Ulm, G., Ade, G., Pohlenz, F., Stümpel, J., Busch, I., Schädlich, S., Frank, W., Hirsch, D., Schindler, A., Procop, M., & Beck, U. (2002). Ein Beitrag zu kalibrierten Nanometerschichten für unterschiedliche Anwendungsbereiche. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium, Technische Universität Ilmenau, 47, Tagungsband: S. 568–569 [print ed.]; [CD-ROM] file name: 13_1_2.pdf.