| Zugriffsnummer | 14232 |
| Dokumenttyp | Zeitschriftenartikel |
| Sprache | Englisch |
| Titel | Chemical Nanolithography with Electron Beams |
| Autor(in); Institution |
Gölzhäuser, Armin; Universität Heidelberg, Angewandte Physikalische Chemie, Heidelberg, GERMANY
Eck, Wolfgang; Universität Heidelberg, Angewandte Physikalische Chemie, Heidelberg, GERMANY
Geyer, Wolfgang; Universität Heidelberg, Angewandte Physikalische Chemie, Heidelberg, GERMANY
Stadler, Volker; Universität Heidelberg, Angewandte Physikalische Chemie, Heidelberg, GERMANY
Weimann, Thomas; 2.404, Nanostrukturen für technische Anwendungen, PTB-Braunschweig
Hinze, Peter; 2.404, Nanostrukturen für technische Anwendungen, PTB-Braunschweig
Grunze, Michael; Universität Heidelberg, Angewandte Physikalische Chemie, Heidelberg, GERMANY
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| Quelle/Jahr | Advanced Materials: 13 (2001), 11, 806 - 809 |
| ISSN | 0935-9648 (PRINT) ; 1521-4095 (ONLINE) |
| Freie Schlagworte | self assembling monolayer ; e-beam lithography ; resist |
| Zusammenfassung | In summary, we have generated chemical nanostructures on aromatic self-assembled monolayers using highly focused electron beams. Upon irradiation, the terminal nitro groups of nitrobiphenylthiol SAMs can be converted into aminogroups with a spatial resolution down to 20 nm, while the underlying aromatic substrate is dehydrogenated and crosslinked. |
